設(shè)備概述
低溫等離子是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。
設(shè)備應(yīng)用范圍
1）主要運(yùn)用于化工、造紙業(yè)、制藥業(yè)、食品業(yè)、輪胎及橡膠生產(chǎn)廠、汽車生產(chǎn)、油漆噴涂、污水處理、污泥廢氣處理、垃圾處理廢氣、皮革業(yè)、印刷業(yè)、香料生產(chǎn)業(yè)、飼料及飼養(yǎng)場、農(nóng)藥生產(chǎn)以及煙草業(yè)等等多個領(lǐng)域的異味和惡臭處理。
2）涉及氣體物質(zhì)多達(dá)900多種，主要包括：硫化氫、氨氮類、硫醇類、硫醚類、吲哚類、苯類、硝基類、烷烴以及醚類等。
設(shè)備原理
過程一：高能電子的直接轟擊
過程二：O原子或臭氧的氧化O2+e--2O-
過程三：OH自由基的氧化H2O+e--OH+H H2O+O--2OH H+O2--OH+O
過程四：分子破片+氧化的反應(yīng)
低溫等離子廢氣處理設(shè)備技術(shù)優(yōu)勢
1）介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生電子能量高，低溫等離子體密度大，可達(dá)到常用等離子技術(shù)（電暈放電）的1500倍，幾乎可以擊碎所有有機(jī)廢氣的分子鏈。
2）技術(shù)反應(yīng)速度快，氣體通過反應(yīng)區(qū)的柳樹達(dá)到3-15米/秒，也可達(dá)到很好的處理效果。
3）自動化程度高，設(shè)備啟動、停止十分迅速、隨用隨開，對于部分不連續(xù)產(chǎn)生廢氣的收集點(diǎn)，可以循環(huán)啟停節(jié)約成本。
產(chǎn)品結(jié)構(gòu)特點(diǎn)
1）凈化效率高，性能穩(wěn)定；
2）設(shè)備風(fēng)阻低≤400Pa，無需加人抽風(fēng)設(shè)備，投資低；
3）運(yùn)行成本低，耗電��；
4）維護(hù)保養(yǎng)簡便，費(fèi)用低，每使用60天為保養(yǎng)清洗期；
5）安全可靠，設(shè)備采用敞開式排放形式，不設(shè)封閉高壓，高溫區(qū)；
6）使用壽命長，安裝簡便，操作過程實(shí)行全自動化；
7）使用壽命長，安裝簡便，操作過程實(shí)行全自動化；
8）處理風(fēng)量5000-200000m3/h以上（可根據(jù)客戶實(shí)際要求尺寸訂做）
