化工廠廢氣處理設(shè)備原理
1.工業(yè)廢氣利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，先經(jīng)過過濾網(wǎng)去除大分子和顆粒，既對廢氣進(jìn)行初級處理；其次凈化設(shè)備運用特制高能光波及臭氧對工業(yè)廢氣進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，利用高能光波裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的；
2.利用高能高臭氧光波分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用；
3.在光線的作用下，光觸媒會產(chǎn)生強烈催化降解功能：能有效地降解空氣中有毒有害氣體，能有效殺滅多種細(xì)菌，并能將細(xì)菌或真菌釋放出的毒素分解及無害化處理，同時它還具備除臭、抗污等功能。
化工廠廢氣處理設(shè)備性能優(yōu)勢
㈠、本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧光波裂解工業(yè)廢氣，改變廢氣如：氨、三甲胺、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯；硫化物：H2S，VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機或無機高化合物分子鏈在特效光波照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物。
㈡、無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使工業(yè)廢氣通過本設(shè)備進(jìn)行分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
㈢、化工廠廢氣處理設(shè)備適應(yīng)性強：DH-GYQ系列工業(yè)廢氣特效光波催化氧化凈化設(shè)備可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的脫臭、凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。
㈣、運行成本低：DH-GYQ系列工業(yè)廢氣特效光波裂解催化氧化凈化設(shè)備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，設(shè)備風(fēng)阻極低＜50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。
㈤、設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。
